成膜装置
MPSは実験用の主に小型装置を提供します。
お考えの装置の仕様、予算をお伝えいただければ直ちに検討いたします。予算が少ない場合でも中古部品などを使用してご要求に合わせることが可能です。
以下にこれまで手がけた装置の一例をご紹介します。
抵抗加熱式蒸着装置
抵抗加熱式の蒸着装置です。小規模の光学膜生産用としてお使いいただいています。
熱+プラズマCVD装置
窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズマによるプラズマCVDが選択できます。両方式の併用も可能です。
EBPVD装置
100kWの直進銃を搭載したEBPVD装置です。新しい断熱膜の研究開発用として使用していただいています。
RFスパッタ装置
実験用のスパッタ装置です。4インチの円形マグネトロンカソードを最大4個搭載可能です。
お客様の要求性能、ご予算に合わせた最適な装置をご提案いたします。
DCパルススパッタ装置
メタル膜成膜用のスパッタ装置です。4インチの円形マグネトロンカソードを最大4個搭載可能です。
本装置はアンバランスドマグネトロン、強磁場バランスドマグネトロン、可変磁場マグネトロンを備えています。
実験用スパッタ装置はお客様の要求性能、ご予算に合わせた最適な装置をご提案いたします。
ご予算により、ご支給品、中古品などの使用も可能です。
実験用スパッタ装置
センサー膜開発用のスパッタ装置です。絶縁膜と合金膜のスパッタが可能で、資料は水平および垂直軸方向に回転できます。本装置はパソコンで制御しています。